第73章 45纳米制程光刻机（1/2）

云野消化完知识后，伸手指着样品，花费3点灵感兑换的【《光刻胶优化技术》】涌入脑海，改进方案在脑海中清晰可见。\w!z~s+b,o.o*k*.^c￠o_m/

他沉声道：“加5%纳米二氧化硅颗粒，粒径10纳米，提升流动性。溶剂比例调至乙醇和丙二醇甲醚1:1，挥发速率更匀。”

技术员很快记下配方，疑惑道：“纳米颗粒不会影响感光性吗？”

云野摇头：“不会，二氧化硅透明，感光层不受干扰。”

技术员若有所思点点头，领教完后就要告辞，云野却让他们不急着走。

无界深空有很多实验室，为了研发材料，相关的实验室设备都是李浩采购目前能接触到的最好水平。

“你们不急着走，就在我这里研究研究。”

技术员见到一旁国安在场，不太敢反驳，于是就答应云野。

次日，技术员带团队调整配方，新样品成功出炉。

云野和技术员再次检测，显微镜下涂层平滑如镜，厚度误差缩至0.1微米，均匀性提至95%。

“成了！”

云野心中暗暗感叹，这45纳米光刻机还真有希望了！

而今天，林启明也亲自到场。

云野从实验室出来，和林启明坐在会议室，泡了壶茶。

林启明感慨：“云野，爆炸的事吓死我了，你没事就好。`x~q?u·k?a_n.s.h￠u*w-u/.-c?o′m!”

云野摆摆手：“命大，林叔叔别担心。”

话题很快就转向芯片，林启明笑道：“寰宇电子靠你LXR系列，目前己经跻身国内前五了，但产能还是不够，我们订单己经排到明年下半年了。

这些年，国内发展势头迅猛。只可惜寰宇电子目前没有足够的光刻机。

对了，65纳米的光刻机，你们研发中心进度如何？”

云野抿了口茶，淡定道：“多亏了林叔叔提前布局光刻胶，经过我提点改进。改进后的光刻胶在65纳米光刻机上会得到丰富应用。

所以两个月之内，65纳米光刻机将毫无问题。”

云野心中清楚的很，这光刻胶经过他改进后，应用于45纳米还是有机会的。后续在他们配方上继续优化一下，改变制作工艺，可以用于制程更高的光刻机。

与其说两个月之内研发出65纳米，倒不如说短期内研发出45纳米光刻机。毕竟，研发中心必须要部署一台45纳米光刻机，而超算芯片和天眼系统全部需要他们发挥神力。

林启明听闻，大喜：“你们研发出后，能将成品设备首接卖吗？寰宇急需扩产。”

云野笑了笑：“放心吧，寰宇电子怎么也有我的一份股权，当然会卖给寰宇电子。同时，这光刻胶的量，得对无界深空多一点价格上的优惠啊。,3/3.k?a¨n~s_h,u¨.\c`o-m_”

“哈哈，好说好说！一起赚钱！”林启明心情大好。

预定好第一批光刻机送货上门，云野送走了他们。而他自己则将目光转向光刻机的精密移动平台。

高精度移动系统是光刻机的“腿”，需精确定位硅片，让光源覆盖每一寸，雕刻电路。

他打开电脑，回想小型机器人经验：“机器人关节精度0.01毫米，移动平台得压到0.001毫米。”

结合之前兑换光刻机的相关技术路线，云野设计出了双轴移动结构，他在光刻机的X轴和Y轴各配步进电机，步距0.5微米，搭配激光干涉仪实时校准。

连着三周时间，云野没踏出研发中心一步。

他每天起早贪黑，休息时间严重不够，白天推导公式，夜晚调试硬件。

电脑屏幕上机器位移方程滚动，他优化加减速曲线，确保移动平稳。硬件上，他用碳纳米管复合材料做导轨，轻且耐磨。

在他设计高精度移动系统的时候，光学系统小组传来捷报。

他们历时多个月，在云野图纸帮助下，终于搞定光学系统。这也是光刻机上的重中之重！有光源，有光学系统，组合下配合高精度移动平台。

一台简易版的光刻机就搞定了！

负责光学研究的程教授说道：“镜片组12片，全镀增透膜，反射率降到0.5%，光通量提30%。

搭配极紫外线的光源，可以满足65纳米的需求，甚至45纳米的需求也够了！”

云野则和程教授一起测试光路，光束聚焦如针，硅片刻痕细腻。

看着实验结果，云野心中舒畅无比。这套光学系统，本身就是为了45纳米而诞生的！只要等到其他部件研发完毕，就可以组装在一起。

这一次，他对45纳米的光刻机势在必得！

有了移动平台和光学系统，云野按图纸组装光刻机。他将其命名为“深空1号”，寓意无界深空的起点。

七月尾，深空1号正式成型，占地10平米，机身银灰，看上去的样子朴实无华但蕴含能量。

云野紧张地启动设备，准备